日本光刻胶三巨头与ASML相继提价，半导体材料设备景气度受关注

日本JSR、东京应化、信越化学自2026年10月1日起执行新定价，全品类光刻胶基础涨幅约15%，ArF系列长协上调16%至22%，适配HBM的浸没式ArF光刻胶最高涨幅达24%。ASML宣布对韩国客户零部件价格全线上调10%，三星电子与SK海力士已接受，涨价将于2027年1月起生效。华泰柏瑞科创半导体设备ETF（588710）跟踪科创半导体材料设备指数，材料与设备行业合计占比89%。